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中国科学技术大学以理工科见长,注重基础学科教育。

吴汉明在此系统学习数学、物理等基础课程,培养了严密的逻辑思维与科学方法论。

这为他日后涉足集成电路制造这一高度依赖物理原理(如等离子体物理、热力学)的领域,提供了底层知识支撑。

例如:芯片制造中的刻蚀、沉积工艺,本质上是等离子体与材料相互作用的物理过程,扎实的数理基础使其能快速理解技术底层逻辑。

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吴汉明在中科院力学所攻读博士研究生,他聚焦等离子体与磁流体力学。

他选择等离子体物理作为研究方向,看似与芯片制造关联较远,实则为其打开了跨学科视角。

等离子体技术是半导体制造中刻蚀、薄膜沉积等关键工艺的核心(如干法刻蚀需利用等离子体电离气体实现材料刻蚀)。

这一阶段的研究,让他提前掌握了芯片制造核心环节的底层技术原理,成为后来解决工程问题的“学术武器”。

吴汉明作为恢复高考后的首批研究生,他获得了稀缺的深造机会。

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