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中国科学技术大学以理工科见长，注重基础学科教育。
吴汉明在此系统学习数学、物理等基础课程，培养了严密的逻辑思维与科学方法论。
这为他日后涉足集成电路制造这一高度依赖物理原理（如等离子体物理、热力学）的领域，提供了底层知识支撑。
例如：芯片制造中的刻蚀、沉积工艺，本质上是等离子体与材料相互作用的物理过程，扎实的数理基础使其能快速理解技术底层逻辑。
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吴汉明在中科院力学所攻读博士研究生，他聚焦等离子体与磁流体力学。
他选择等离子体物理作为研究方向，看似与芯片制造关联较远，实则为其打开了跨学科视角。
等离子体技术是半导体制造中刻蚀、薄膜沉积等关键工艺的核心（如干法刻蚀需利用等离子体电离气体实现材料刻蚀）。
这一阶段的研究，让他提前掌握了芯片制造核心环节的底层技术原理，成为后来解决工程问题的“学术武器”。
吴汉明作为恢复高考后的首批研究生，他获得了稀缺的深造机会。
